Тканевая маска "Релакс и восстановление", 33 мл, I'M Sorry For My Skin

Уход за лицом и телом из Японии
Дизайн: Южная Корея
Производство: Южная Корея

Акция проходила:

В апреле 2021

скидка составила: 35%

Тканевая маска I'm Sorry for My Skin Релакс и восстановление, 33 мл

Современные леди не привыкли отказывать себе ни в чем! Наслаждайтесь жизнью, а маска I'm Sorry for My Skin позаботится о красоте вашей кожи!

Маска создана для релакса после тяжелого дня: интенсивно увлажняет, устраняет последствия стресса, успокаивает, улучшает цвет лица, придает мягкость, нежность и шелковистость.
Эссенция содержит гидролизованный коллаген для увлажнения, экстракт ромашки для противовоспалительного и успокаивающего действия, экстракт центеллы азиатской для восстановления.


Способ применения:
Откройте пакет с маской и распределите маску на предварительно очищенной и сухой коже лица, избегая области глаз и рта. Оставьте маску на 10 -20 минут в зависмости от интенсивности впитываемости эссенции на коже.

Состав: Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Methylpropanediol, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Panthenol, Phenyl Trimethicone, Polyglyceryl-10 Laurate, Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, Paeonia Suffruticosa Root Extract, Trehalose, 1,2-Hexanediol, Allantoin, Xanthan Gum, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Glyceryl Caprylate, Hydroxyethylcellulose, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Sodium Polyacrylate Starch, Citrus Aurantium Dulcis (Orange) Peel Oil, Collagen Extract, Citrus Tangerina (Tangerine) Peel Oil, Diethylhexyl Sodium Sulfosuccinate, Pantolactone, Litsea Cubeba Fruit Oil, Citric Acid, Myristica Fragrans (Nutmeg) Kernel Oil, Aloe Ferox Leaf Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Water, Cucumis Sativus (Cucumber) Extract, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Extract, Ocimum Basilicum (Basil) Extract, Mentha Piperita (Peppermint) Extract, Lavandula Angustifolia (Lavender) Extract, Anthemis Nobilis Flower Extract, Disodium EDTAТканевая маска I'm Sorry for My Skin Релакс и восстановление, 33 мл

Современные леди не привыкли отказывать себе ни в чем! Наслаждайтесь жизнью, а маска I'm Sorry for My Skin позаботится о красоте вашей кожи!

Маска создана для релакса после тяжелого дня: интенсивно увлажняет, устраняет последствия стресса, успокаивает, улучшает цвет лица, придает мягкость, нежность и шелковистость.
Эссенция содержит гидролизованный коллаген для увлажнения, экстракт ромашки для противовоспалительного и успокаивающего действия, экстракт центеллы азиатской для восстановления.


Способ применения:
Откройте пакет с маской и распределите маску на предварительно очищенной и сухой коже лица, избегая области глаз и рта. Оставьте маску на 10 -20 минут в зависмости от интенсивности впитываемости эссенции на коже.

Состав: Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Methylpropanediol, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Panthenol, Phenyl Trimethicone, Polyglyceryl-10 Laurate, Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, Paeonia Suffruticosa Root Extract, Trehalose, 1,2-Hexanediol, Allantoin, Xanthan Gum, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Glyceryl Caprylate, Hydroxyethylcellulose, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Sodium Polyacrylate Starch, Citrus Aurantium Dulcis (Orange) Peel Oil, Collagen Extract, Citrus Tangerina (Tangerine) Peel Oil, Diethylhexyl Sodium Sulfosuccinate, Pantolactone, Litsea Cubeba Fruit Oil, Citric Acid, Myristica Fragrans (Nutmeg) Kernel Oil, Aloe Ferox Leaf Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Water, Cucumis Sativus (Cucumber) Extract, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Extract, Ocimum Basilicum (Basil) Extract, Mentha Piperita (Peppermint) Extract, Lavandula Angustifolia (Lavender) Extract, Anthemis Nobilis Flower Extract, Disodium EDTAТканевая маска I'm Sorry for My Skin Релакс и восстановление, 33 мл

Современные леди не привыкли отказывать себе ни в чем! Наслаждайтесь жизнью, а маска I'm Sorry for My Skin позаботится о красоте вашей кожи!

Маска создана для релакса после тяжелого дня: интенсивно увлажняет, устраняет последствия стресса, успокаивает, улучшает цвет лица, придает мягкость, нежность и шелковистость.
Эссенция содержит гидролизованный коллаген для увлажнения, экстракт ромашки для противовоспалительного и успокаивающего действия, экстракт центеллы азиатской для восстановления.


Способ применения:
Откройте пакет с маской и распределите маску на предварительно очищенной и сухой коже лица, избегая области глаз и рта. Оставьте маску на 10 -20 минут в зависмости от интенсивности впитываемости эссенции на коже.

Состав: Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Methylpropanediol, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Panthenol, Phenyl Trimethicone, Polyglyceryl-10 Laurate, Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, Paeonia Suffruticosa Root Extract, Trehalose, 1,2-Hexanediol, Allantoin, Xanthan Gum, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Glyceryl Caprylate, Hydroxyethylcellulose, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Sodium Polyacrylate Starch, Citrus Aurantium Dulcis (Orange) Peel Oil, Collagen Extract, Citrus Tangerina (Tangerine) Peel Oil, Diethylhexyl Sodium Sulfosuccinate, Pantolactone, Litsea Cubeba Fruit Oil, Citric Acid, Myristica Fragrans (Nutmeg) Kernel Oil, Aloe Ferox Leaf Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Water, Cucumis Sativus (Cucumber) Extract, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Extract, Ocimum Basilicum (Basil) Extract, Mentha Piperita (Peppermint) Extract, Lavandula Angustifolia (Lavender) Extract, Anthemis Nobilis Flower Extract, Disodium EDTA

I'M Sorry For My Skin

Качественный и недорогой уход для лица из Японии. Пенки для умывания, маски, кремы от ведущих брендов: Roland, Utena, Rosette и другие.
Наверх